«Роснано» внесла 40 млн. евро в голландскую передовую микроэлектронику.

«Роснано» заявила об инвестициях в Mapper Lithography - разработчика технологии безмасочной литографии из Гонландии. По данным обеих компаний, сумма таких инвестиций составит 40 млн. евро, а, например, выгодные вклады в банках доступны всем желающим в любое время

Кроме «Роснано», инвестировать Mapper будут и действующие акционеры компании Parcom Capital (Parc-IT), ADP Industries, Hoving Partners, технологические компании Demcon и Technolution, семейные инвестиционные фонды, частные инвесторы и Агентство Нидерландов при министерстве сельского хозяйства, экономики и инноваций. Вместе они внесут в развитие Mapper Lithography дополнительно 40 млн.

Получается, что Mapper Lithography в нынешнем этапе инвестиций будет иметь 80 млн. евро.

Mapper Lithography, которая была создана в Делфтском техническом университете, разрабатывает литографическое оборудование совершенно нового поколения, основанное на технологии multiple e-beam (множественных электронных лучей).

Данная технология является альтернативой известному методу фотолитографии, который используется при выпуске подложек микросхем. Согласно рассказам Mapper и «Роснано», новые разработки голландской компании дают возможность выпускать до 100 подложек за час с разрешающей способностью 22 нм. Это вполне соответствует используемому в микроэлектронике топологическому стандарту (10 нм и 14 нм).

Mapper Lithography - сборка оборудования.

Благодаря инвестициям Mapper сможет выпустить несколько новых поколений оборудования Matrix. Модель Matrix 1.1, её выпуск планируется в 2012 году, применяет более 1300 «электронных лучей», при этом обрабатывает одну подложку за час. Модель Matrix 10.1, использует уже 13260 электронных лучей, при этом за 1 час производится 10 подложек. Matrix 10.10, состоит из 10 установок Matrix 10.1, при этом в час обрабатывает 100 подложек - это полностью соответствует требованиям, существующим в массовом производстве микросхем. Благодаря инвестициям мощности производства Mapper будут увеличены до 20 литографических машин за год.

Предполагается, что будет организовано производство выпуска электронной оптики на основе МЭМС(микроэлектромеханических систем) в России – основного компонента оборудования Mapper. Мощность такого предприятия будет до 20 систем электронной оптики за год. Каждая из таких систем способна «укротить» 13 260 параллельных электронных лучей.

Технология безмасочной литографии на основе Mapper стимулируется международной программой Imagine, ее основными участниками являются французская STMicroelectronics и TSMC - тайваньский производитель микроэлектроники.

В 2012 г. программу Imagine продлили на три года. В течение этого срока производители микроэлектроники смогут провести тестирование опытного оборудования Matrix в настоящей реальной производственной деятельности.